半導體 及 封裝製造
應用的產品有G-line、I-line及厚膜等光阻,主要應用於半導體及封裝產業的黃光製程;此外,我們也提供一系列的相關產品,包括光阻劑的顯影液等。基於關懷顧客、共創價值的理念,永光化學將持續以無塵室生產技術及精密分析儀器確保產品品質,為顧客提供更佳的服務效能。
產品系列 | 應用 | 特性 |
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EPG 510 正型光阻劑 |
具有高感光性,且耐熱性佳的正型光阻劑 應用於積體電路的製造 |
• 高感光性
• 附著性佳 • 耐熱性佳 • 較大製程寬容度 |
EPG 530 正型光阻劑 |
具有高解析度和耐熱性佳的正型光阻劑 應用於積體電路的製造 |
• 高解析度
• 附著性佳 • 耐熱性佳 • 較大製程寬容度 |
EPG 550 正型光阻劑 |
正型光阻劑具有高解析度和良好的抗金屬反射性 應用於G-line金屬層製程 |
• 高解析度
• 抗金屬反射佳 |
EPG 590 厚膜正型光阻劑 |
為正型厚膜光阻劑 應用於光阻厚度10~30µm之鍍金及鍍銅製程 可進行金凸塊或銅線路之製作 |
• 耐化性佳
• 高黏度 • 附著性佳 • 電鍍濕製程 |
產品系列 | 應用 | 特性 |
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EPI 620 正型光阻劑 |
具有高解稀度和耐熱性佳的正型光阻劑 應用於積體電路的製造 |
• 高解稀度
• 附著性佳 • 耐熱性佳 • 較大製程寬容度 |
EPI 680 正型光阻劑 |
具有高感光性 I-line 正型光阻劑 應用於積體電路製造中的保護層 |
• 高感光性
• 附著性佳 • 較大製程寬容度 |
EPI 687 正型光阻劑 |
具有高感光性 I-line 正型光阻劑 應用於積體電路製造中的保護層 |
• 高感光性
• 低黏度 • 圖形較佳 |
產品系列 | 應用 | 特性 |
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EverPI P07 正型聚醯亞胺 |
積體電路的製造兼具保護層作用 | • 可圖型化
• 耐化性佳 • 耐熱性佳 • 適用於低溫製程 |