發光二極體製造

提供 LED 上游製程使用的各種基板拋光用研磨漿料，分別應用於藍寶石基板與矽晶圓基板及不鏽鋼材的前、後段拋光製程。亦提供LED中游階段黃光製程使用之正、負型光阻劑。 為使客戶省略強酸蝕刻貴金屬之製程，永光開發應用於 Lift-off 製程的光阻劑；此外，提高 LED 發光效率的 PSS (Pattern Sapphire Substrate) 製程所使用的光阻劑，亦是供應客戶的重點產品。

▍ESR 131

分散均勻的球型粒子以及特殊的配方組成
適合於不鏽鋼及各類鋁合金基板的鏡面拋光加工。

  • 不會在表面造成額外的腐蝕傷害。
  • 可以快速達成鏡面拋光加工。
  • 容易清洗。

▍ESA 220

分散均勻的研磨粒子以及特殊的配方組成
適合氮化鋁基材拋光，以及金屬基板的第一道粗拋。

  • 具有良好的懸浮性，粒子分散均勻，可完成最佳加工表面。
  • 長時間使用可持續良好拋光速度，適合拋光液循環製程。
  • 拋光液沉降後，簡單搖動即可再分散。

– 其它應用領域 –

半導體 & 封裝製造  |  平面顯示器製造  |  發光二極體製造  |  觸控應用