發光二極體製造
提供 LED 上游製程使用的各種基板拋光用研磨漿料，分別應用於藍寶石基板與矽晶圓基板及不鏽鋼材的前、後段拋光製程。亦提供LED中游階段黃光製程使用之正、負型光阻劑。 為使客戶省略強酸蝕刻貴金屬之製程，永光開發應用於 Lift-off 製程的光阻劑；此外，提高 LED 發光效率的 PSS (Pattern Sapphire Substrate) 製程所使用的光阻劑，亦是供應客戶的重點產品。
▍ESR 500
分散均勻的球型粒子以及特殊的配方組成
適合於藍寶石晶圓的整段拋光。
- 有極高的研磨速度
- 高製程寬容度與良好的穩定性
- 可達到近完美的拋光表面
▍ESR 600
分散均勻的球型粒子以及特殊的配方組成
適合於藍寶石A-Plane晶圓的拋光，應用於手機、GPS等3C產品的保護鏡片(Cover Lens)或高階手錶的保護鏡片。
- 針對不易加工的A軸藍寶石，提高於一般漿料50%以上的移除速率。
▍ESA 280
分散均勻的研磨粒子以及特殊的配方組成
適合藍寶石基材快速拋光。
- 具有良好的懸浮性
- 粒子分散均勻，可完成最佳加工表面
- 表面粗糙度 Ra < 0.3 nm
- 長時間使用可持續良好拋光速度，適合拋光液循環製程
- 拋光液沉降後，簡單搖動即可再分散
– 其它應用領域 –