發光二極體製造
提供 LED 上游製程使用的各種基板拋光用研磨漿料，分別應用於藍寶石基板與矽晶圓基板及不鏽鋼材的前、後段拋光製程。亦提供LED中游階段黃光製程使用之正、負型光阻劑。 為使客戶省略強酸蝕刻貴金屬之製程，永光開發應用於 Lift-off 製程的光阻劑；此外，提高 LED 發光效率的 PSS (Pattern Sapphire Substrate) 製程所使用的光阻劑，亦是供應客戶的重點產品。
▍ESR 236
分散均勻的小粒徑球型粒子以及特殊的配方組成
以20~40倍稀釋後，適用於矽片的第一階段、第二階段拋光，可達到極佳的拋光表面，減少最後段精拋成本、並提高良率。
- 快速的研磨速度
- 提升拋光布的使用壽命
- 循環式或非循環式製程皆適合使用
▍ESS 020
分散均勻的小粒徑球型粒子以及特殊的配方組成
適用於矽片的第一階段、第二階段拋光和矽材料拋光使用。
- 快速的研磨速度
- 提升拋光布的使用壽命
- 循環式或非循環式製程皆適合使用
- 高稀釋倍率使用
▍ESS 100
分散均勻的大粒徑球型粒子以及特殊的配方組成
適用於矽片的第一階段拋光和矽材料拋光使用。
- 更快速的研磨速度
- 提升拋光布的使用壽命
- 循環式或非循環式製程皆適合使用
- 高稀釋倍率使用
– 其它應用領域 –