觸控應用
多種應用在觸控面板製程用的光阻劑，也供應觸控模組製程中的保護層與絕緣層使用的光阻劑、碳黑光阻劑及相關產品。其產品特性包括：在塗佈均勻性及和基材間有良好的附著性，較低的膜厚損失，較大的表面阻抗，以及較佳的去除性。
▍ENPD 22 & 23
高濃縮水溶性無機鹼顯像液 (KOH type)
搭配於負型光阻劑之顯像，並提供良好顯像能力。
- 顯影製程寬容度高
- 製造過程具低起泡性
- 易於使用的高濃縮溶液
※ 此為濃縮的鹼液。
在使用前原液必須以去離子水稀釋，ENPD 22為1:50，ENPD 23為1:100。
▍ENPD 72 / ENPD 80
長效緩衝高濃縮水溶性無機鹼顯像液 (Buffer type)
搭配於負型光阻劑之顯像，並提供良好顯像能力。
- 顯影製程寬容度高
- 製造過程具低起泡性
- 易於使用的高濃縮溶液
※ 此為濃縮的鹼液。
在使用前原液必需以去離子水稀釋，ENPD 72為1:19、ENPD 80為1:9。
– 其它應用領域 –