平面顯示器製造

為符合顯示器產業對於色彩表現的更高要求,持續致力於開發TFT Array光阻劑、熱固oc、遮光油墨、玻璃側邊保護膠、及顯影液與稀釋液,以滿足客戶各種需求。

產品系列 應用 特點
EPL 388
正型光阻劑
正型光阻劑和基材間有良好的附著性
LTPS Array的製造及Spin塗佈製程
• 高敏感度

• 附著性佳

• 耐熱性佳

• 較大製程寬容度

產品系列 優勢 應用 特點
EPL 356
正型光阻劑
具有塗佈在有金屬線路基材上無濺影、高耐熱性與高解析度之特性
提供PMOLED製程用。
Slit、Spin
塗佈製程
• 高感度

• 高解析

• 附著性佳

• 耐熱性佳

ENPI 300
鹼性顯影用的負型光阻劑
高感光性、高耐熱性,提供OLED製程使用。 Spin 塗佈製程 • 高耐熱性

• 高感光性

• 附著性佳

• 最佳倒角形狀

• 安全溶劑

產品名稱 應用 特性
IBR、IPR
玻璃側邊膠

適用於窄邊框LCD螢幕之生產製造
實現無邊框視野及超高屏幕比
• 高速UV LED固化速度

• 高密著特性

產品系列 類型 應用 特性 備註
ENPD 22 & 23
高濃縮水溶性無機鹼顯像液

KOH type 搭配於負型光阻劑之顯像
並提供良好顯像能力
• 顯影製程寬容度高

• 製造過程具低起泡性

• 易於使用的高濃縮溶液

此為濃縮的鹼液。
在使用前原液必須以去離子水稀釋,ENPD 22為1:50,ENPD 23為1:100。
ENPD 72
ENPD 80
長效緩衝高濃縮水溶性無機鹼顯像液
Buffer type 搭配於負型光阻劑之顯像,並提供良好顯像能力。 • 顯影製程寬容度高

• 製造過程具低起泡性

• 易於使用的高濃縮溶液

此為濃縮的鹼液。
在使用前原液必需以去離子水稀釋,ENPD 72為1:19、ENPD 80為1:9。
產品系列 應用 特性
EGC 18
強鹼性水溶性無機鹼清洗液

LCD製程中Array和CF段的顯影機台內的管路和顯影槽的清洗保養
搭配顯影液使用效果更佳
• 清洗能力高

• 清洗過程具低起泡性、消泡快

• 濃縮的溶液,用量少

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