平面顯示器製造
為符合顯示器產業對於色彩表現的更高要求，持續致力於開發TFT Array光阻劑、熱固oc、遮光油墨、玻璃側邊保護膠、及顯影液與稀釋液，以滿足客戶各種需求。
| 產品系列 | 應用 | 特點 |
|---|---|---|
| EPL 388 正型光阻劑 |
正型光阻劑和基材間有良好的附著性 LTPS Array的製造及Spin塗佈製程 |
• 高敏感度
• 附著性佳 • 耐熱性佳 • 較大製程寬容度 |
| 產品系列 | 優勢 | 應用 | 特點 |
|---|---|---|---|
| EPL 356 正型光阻劑 |
具有塗佈在有金屬線路基材上無濺影、高耐熱性與高解析度之特性 提供PMOLED製程用。 |
Slit、Spin 塗佈製程 |
• 高感度
• 高解析 • 附著性佳 • 耐熱性佳 |
| ENPI 300 鹼性顯影用的負型光阻劑 |
高感光性、高耐熱性，提供OLED製程使用。 | Spin 塗佈製程 | • 高耐熱性
• 高感光性 • 附著性佳 • 最佳倒角形狀 • 安全溶劑 |
| 產品名稱 | 應用 | 特性 |
|---|---|---|
| IBR、IPR 玻璃側邊膠 (UV 遮光膠) |
適用於窄邊框LCD螢幕之生產製造 實現無邊框視野及超高屏幕比 |
• 高速UV LED固化速度
• 高密著特性 |
| 產品系列 | 類型 | 應用 | 特性 | 備註 |
|---|---|---|---|---|
| ENPD 22 & 23 高濃縮水溶性無機鹼顯像液 |
KOH type | 搭配於負型光阻劑之顯像 並提供良好顯像能力 |
• 顯影製程寬容度高
• 製造過程具低起泡性 • 易於使用的高濃縮溶液 |
此為濃縮的鹼液。 在使用前原液必須以去離子水稀釋，ENPD 22為1:50，ENPD 23為1:100。 |
| ENPD 72 ENPD 80 長效緩衝高濃縮水溶性無機鹼顯像液 |
Buffer type | 搭配於負型光阻劑之顯像，並提供良好顯像能力。 | • 顯影製程寬容度高
• 製造過程具低起泡性 • 易於使用的高濃縮溶液 |
此為濃縮的鹼液。 在使用前原液必需以去離子水稀釋，ENPD 72為1:19、ENPD 80為1:9。 |
| 產品系列 | 應用 | 特性 |
|---|---|---|
| EGC 18 強鹼性水溶性無機鹼清洗液 |
LCD製程中Array和CF段的顯影機台內的管路和顯影槽的清洗保養 搭配顯影液使用效果更佳 |
• 清洗能力高
• 清洗過程具低起泡性、消泡快 • 濃縮的溶液，用量少 |
– 其它應用領域 –