觸控應用

多種應用在觸控面板製程用的光阻劑,也供應觸控模組製程中的保護層與絕緣層使用的光阻劑、碳黑光阻劑及相關產品。其產品特性包括:在塗佈均勻性及和基材間有良好的附著性,較低的膜厚損失,較大的表面阻抗,以及較佳的去除性。

產品系列 優勢 應用 特性
EPL 352
正型光阻劑
在塗佈均勻性及和基材間有良好的附著性 可應用於Touch Panel的製造。
可應用於Spin塗佈製程。
◆ 較佳的塗佈均勻性
◆ 低膜厚損失
◆ 較大的表面阻抗
◆ 較佳附著性
◆ 較佳的去除性
EPG 580
正型厚膜光阻劑
具有良好的抗氫氟酸蝕刻性 應用於OGS製程 及 Slit & Spin塗佈製程。 ◆ 抗氫氟酸蝕刻性佳
◆ 附著性佳
◆ 去除性佳
產品系列 應用 特性
EK 620
具有高表面阻抗之碳黑光阻劑
適用於OGS製程之觸控面板製造。
  • 高表面阻抗值
  • 高感度
  • 良好之表面平坦性
  • 優異之附著性
  • 優異之顯影寬容度
  • 良好之耐熱及耐化學藥劑特性
SW 5550
具有高表面阻抗之白色光阻劑
適用於OGS製程之觸控面板製造。
  • 不易黃變
  • 高表面阻抗值
  • 良好之表面平坦性
  • 優異之附著性
  • 優異之顯影寬容度
  • 良好之耐化學藥劑特性
產品系列 應用 特性
EOC 100
鹼性水可溶負型光阻

適用於製作感光性保護層光阻劑。
  • 高穿透率高
  • 解析度佳
  • 耐化性佳
  • 抗蝕刻性佳
  • 耐濕性佳
  • 高感度
  • 製程寬容度佳
EOC 200
鹼性水可溶負型光阻
適用於觸控面板層間絕緣層與保護層之製作。
  • 適用OC1及OC2
  • 高表面硬度
  • 穿透率高
  • 解析度佳
  • 耐化性佳
  • 抗蝕刻性佳
  • 耐濕性佳
  • 高感度
  • 製程寬容度佳
EOC 300
鹼性水可溶負型光阻
適用於On-cell製程中觸控面板層間絕緣層與保護層之製作。
  • ITO及素玻璃附著性佳
  • 高穿透率
  • 耐化性佳
  • 優異耐蝕刻液側蝕表現
  • 製程寬容度佳
產品系列 優勢 應用 特性
FSR 110
正型光阻劑
具有高解析度和良好的抗蝕刻性 可應用於軟性基材及COF製程。
可應用於Spinless塗佈製程。
◆ 軟性基材適用
◆ 高解析度
◆ 高感光性
◆ 抗蝕刻性佳
◆ 較大製程寬容度
◆ 可顯影於氫氧化鉀或碳酸鈉溶液
產品系列 類型 應用 特性 備註
ENPD 22 & 23
高濃縮水溶性無機鹼顯像液

KOH type 搭配於負型光阻劑之顯像,並提供良好顯像能力。 ‧ 顯影製程寬容度高
‧ 製造過程具低起泡性
‧ 易於使用的高濃縮溶液
此為濃縮的鹼液。
在使用前原液必須以去離子水稀釋,ENPD 22為1:50,ENPD 23為1:100。
ENPD 72
ENPD 80
長效緩衝高濃縮水溶性無機鹼顯像液
Buffer type 搭配於負型光阻劑之顯像,並提供良好顯像能力。 ‧ 顯影製程寬容度高
‧ 製造過程具低起泡性
‧ 易於使用的高濃縮溶液
此為濃縮的鹼液。
在使用前原液必需以去離子水稀釋,ENPD 72為1:19、ENPD 80為1:9。
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