觸控應用
多種應用在觸控面板製程用的光阻劑，也供應觸控模組製程中的保護層與絕緣層使用的光阻劑、碳黑光阻劑及相關產品。其產品特性包括：在塗佈均勻性及和基材間有良好的附著性，較低的膜厚損失，較大的表面阻抗，以及較佳的去除性。
| 產品系列 | 優勢 | 應用 | 特性 |
|---|---|---|---|
| EPL 352 正型光阻劑 |
在塗佈均勻性及和基材間有良好的附著性 | 可應用於Touch Panel的製造。 可應用於Spin塗佈製程。 |
◆ 較佳的塗佈均勻性 ◆ 低膜厚損失 ◆ 較大的表面阻抗 ◆ 較佳附著性 ◆ 較佳的去除性 |
| EPG 580 正型厚膜光阻劑 |
具有良好的抗氫氟酸蝕刻性 | 應用於OGS製程 及 Slit & Spin塗佈製程。 | ◆ 抗氫氟酸蝕刻性佳 ◆ 附著性佳 ◆ 去除性佳 |
| 產品系列 | 應用 | 特性 |
|---|---|---|
| EK 620 具有高表面阻抗之碳黑光阻劑 |
適用於OGS製程之觸控面板製造。 |
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| SW 5550 具有高表面阻抗之白色光阻劑 |
適用於OGS製程之觸控面板製造。 |
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| 產品系列 | 應用 | 特性 |
|---|---|---|
| EOC 100 鹼性水可溶負型光阻 |
適用於製作感光性保護層光阻劑。 |
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| EOC 200 鹼性水可溶負型光阻 |
適用於觸控面板層間絕緣層與保護層之製作。 |
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| EOC 300 鹼性水可溶負型光阻 |
適用於On-cell製程中觸控面板層間絕緣層與保護層之製作。 |
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| 產品系列 | 優勢 | 應用 | 特性 |
|---|---|---|---|
| FSR 110 正型光阻劑 |
具有高解析度和良好的抗蝕刻性 | 可應用於軟性基材及COF製程。 可應用於Spinless塗佈製程。 |
◆ 軟性基材適用 ◆ 高解析度 ◆ 高感光性 ◆ 抗蝕刻性佳 ◆ 較大製程寬容度 ◆ 可顯影於氫氧化鉀或碳酸鈉溶液 |
| 產品系列 | 類型 | 應用 | 特性 | 備註 |
|---|---|---|---|---|
| ENPD 22 & 23 高濃縮水溶性無機鹼顯像液 |
KOH type | 搭配於負型光阻劑之顯像，並提供良好顯像能力。 | ‧ 顯影製程寬容度高 ‧ 製造過程具低起泡性 ‧ 易於使用的高濃縮溶液 |
此為濃縮的鹼液。 在使用前原液必須以去離子水稀釋，ENPD 22為1:50，ENPD 23為1:100。 |
| ENPD 72 ENPD 80 長效緩衝高濃縮水溶性無機鹼顯像液 |
Buffer type | 搭配於負型光阻劑之顯像，並提供良好顯像能力。 | ‧ 顯影製程寬容度高 ‧ 製造過程具低起泡性 ‧ 易於使用的高濃縮溶液 |
此為濃縮的鹼液。 在使用前原液必需以去離子水稀釋，ENPD 72為1:19、ENPD 80為1:9。 |
– 其它應用領域 –