發光二極體製造

提供 LED 上游製程使用的各種基板拋光用研磨漿料，分別應用於藍寶石基板與矽晶圓基板及不鏽鋼材的前、後段拋光製程。亦提供LED中游階段黃光製程使用之正、負型光阻劑。 為使客戶省略強酸蝕刻貴金屬之製程，永光開發應用於 Lift-off 製程的光阻劑；此外，提高 LED 發光效率的 PSS (Pattern Sapphire Substrate) 製程所使用的光阻劑，亦是供應客戶的重點產品。

▍EPG 516 正型光阻劑

積體電路的製造。

  • 高敏感度
  • 附著性佳
  • 耐熱性佳
  • 較大製程寬容度

▍EPG 527 正型光阻劑

和基材間有良好的附著性與抗蝕刻性，可應用於 LED 磊晶製造之製程 及 Spin 塗佈製程。

  • 抗蝕刻性佳
  • 附著性佳
  • 去除性佳

▍EPG 560 正型厚膜光阻劑

應用於光阻厚度 6~11µm 的 ICP 蝕刻製程。

  • 高感度
  • 抗ICP蝕刻特性佳
  • 耐熱性佳

▍ENPI 200 鹼性顯影用的負型光阻劑

應用於 lift-off 製程。

  • 附著性佳
  • 去除性佳
  • 安全溶劑

– 其它應用領域 –

半導體 & 封裝製造  |  平面顯示器製造  |  發光二極體製造  |  觸控應用